N2 BWS 是同Wafer Sorter搭載一起的,減少wafer表面的膜反應(yīng)。
可以存放800/1600/3200片不等數(shù)量的晶圓
通過少量的N2流量吹掃,實(shí)現(xiàn)低氧,低濕度,高潔凈度的環(huán)境控制。
可實(shí)現(xiàn)Auto Teaching
通過Wafer前方的可開啟關(guān)閉的shutter結(jié)構(gòu),減小取放片時的開口尺寸。
N2 BWS 是同Wafer Sorter搭載一起的,減少wafer表面的膜反應(yīng)。
可以存放800/1600/3200片不等數(shù)量的晶圓
通過少量的N2流量吹掃,實(shí)現(xiàn)低氧,低濕度,高潔凈度的環(huán)境控制。
可實(shí)現(xiàn)Auto Teaching
通過Wafer前方的可開啟關(guān)閉的shutter結(jié)構(gòu),減小取放片時的開口尺寸。
型號: | BWS800 RI76172 | ||||
搬送對象: | 300mm | Wafer : | Φ300±0.2mm | 厚度: | 775μm±20μm |
料盒: | 300mm FOUP 25段(SEMI E47.1) 300mm FOSB 25 段(SEMI M31) | ||||
電源電壓: | 3相 AC208V±10% 50/60Hz±5% | ||||
電流消耗: | 10kVA (30A/200VAC) 含F(xiàn)FU在內(nèi) | ||||
真空(元壓) : | -80kPa~-90kPa | ||||
真空(流量) : | 60L/min | ||||
Air(元壓) : | 0.6MPa~0.7MPa | ||||
Air(流量) : | 30L/min | ||||
N2(元壓) : | 0.4MPa~0.5MPa | ||||
N2(流量) : | 300L/min |
型號: | BWS1600 RI76192 | ||||
搬送對象: | 300mm | Wafer : | Φ300±0.2mm | 厚度: | 775μm±20μm |
料盒: | 300mm FOUP 25段(SEMI E47.1) 300mm FOSB 25 段(SEMI M31) | ||||
電源電壓: | 3相 AC208V±10% 50/60Hz±5% | ||||
電流消耗: | 10kVA (30A/200VAC) 含F(xiàn)FU在內(nèi) | ||||
真空(元壓) : | -80kPa~-90kPa | ||||
真空(流量) : | 60L/min | ||||
Air(元壓) : | 0.6MPa~0.7MPa | ||||
Air(流量) : | 30L/min | ||||
N2(元壓) : | 0.4MPa~0.5MPa | ||||
N2(流量) : | 600L/min |
型號: | BWS3200 RSC2E2 | ||||
搬送對象: | 300mm | Wafer : | Φ300±0.2mm | 厚度: | 775μm±20μm |
料盒: | 300mm FOUP 25段(SEMI E47.1) 300mm FOSB 25 段(SEMI M31) | ||||
電源電壓: | 3相 AC208V±10% 50/60Hz±5% | ||||
電流消耗: | 25kVA (75A/200VAC) 含F(xiàn)FU在內(nèi) | ||||
真空(元壓) : | -80kPa~-90kPa | ||||
真空(流量) : | 60L/min | ||||
Air(元壓) : | 0.6MPa~0.7MPa | ||||
Air(流量) : | 30L/min | ||||
N2(元壓) : | 0.4MPa~0.5MPa | ||||
N2(流量) : | 1200L/min |